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EX-1000熒光粉激發光譜與熱猝滅分析系統
EX-1000熒光粉激發光譜與熱猝滅分析系統可測量熒光材料激發光譜特性和發射光譜特性,有利於篩選高效的激發光源,改進熒光材料的激發光譜特性。
編 號:EX-1000

EX-1000熒光粉激發光譜與熱猝滅分析系統

主要技術指標:
1、激發光譜範圍:200~800nm;
2、激發光譜帶寬:1~10nm可調;
3、激發波長精度:±0.3nm;
4、激發光源穩定度:±1%;
5、發射光譜測量裝置:HAAS-2000高精度快速光譜輻射計,採用精密凹面平場光柵和HAMAMATSU科學級製冷CCD;
6、發射光譜測量範圍:380~780nm;
7、發射光譜波長測量精度:±0.3nm;
8、色品坐標準確度:±0.0003(標準A光源下);
9、色品坐標重複性:±0.00015x,±0.0002y(恆溫藍光LED);
10、光度線性:±1%;
11、光度重複性:±1%;
12、溫度控制:室溫至200℃;(溫度在150℃-200℃時,建議工作時間為10分鐘);
13、溫度控制精度:±2%;
14、粉盤尺寸:內徑Φ20mm,深3mm,邊緣小於0.5mm,不銹鋼;
15、激發/觀察條件:CIE 0/45;
16、具備三維激發-發射光譜圖、二維激發光譜圖、二維發射光譜圖、溫度-亮度。